Oxidation von organischen Spurenstoffen durch Ozonung, UV-Bestrahlung und erweiterte Oxidationsverfahren (Ozon/H2O2, UV/H2O2, UV/Ozon)< zurück

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UV-Laborapparatur mit Quecksilberniederdrucklampe
Das Auftreten organischer Spurenstoffe in Grund- und Oberflächenwasser stellt Wasserversorger vor erhöhte Probleme bei der Trinkwasseraufbereitung. Wenn natürliche und naturnahe Verfahren wie Bodenpassage oder Belüftung persistente und polare Stoffe nicht aus dem Wasser entfernen und die Elimination durch Adsorption an Aktivkohle nicht möglich ist, müssen erweiterte Verfahren wie Ozonung oder die Kombination Ozon / H2O2 ("Advanced Oxidation Process" = AOP) eingesetzt werden. Im Rahmen von Laborversuchen wird am TZW die Wirksamkeit dieser Verfahren bei der Entfernung von neuen persistenten organischen Stoffen (so genannte "emerging contaminants") untersucht. Weitergehende Untersuchungen mit der Bestrahlung durch UV und den kombinierten Verfahren UV/Ozon und UV/H2O2 ergeben ein umfassendes Bild zur Entfernbarkeit durch oxidative Verfahren.
Untersucht wurden bislang verschiedene Komponenten aus dem pharmazeutischen Bereich (Antibiotika, Analgetika, Antiepileptika, iodierte Röntgenkontrastmittel u.v.m.), Benzinzusatzstoffe (MTBE und verwandte Ether), Desinfektionsnebenprodukte (NDMA) etc.. Zur Ermittlung von reaktionskinetischen Konstanten werden Versuche in demineralisiertem Wasser durchgeführt. Um die reale Aufbereitungsleistung abschätzen zu können, kommen natürliche Wässer unterschiedlicher Herkunft zum Einsatz.

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